[로이터와 국내 언론들, “中, EUV 노광장비 시제품 완성” 보도]

로이터통신과 국내 언론들이 “중국이 최첨단 반도체 생산에 필수적인 극자외선(EUV) 노광 장비의 시제품을 개발한 것으로 알려졌다”면서 “중국이 반도체 기술 분야에서 혁신을 이뤘다”고 대대적으로 보도했지만 정작 중국 전문가들은 그런 보도에 대해 불신을 표명하면서 “EUV 프로토타입의 진위 여부가 매우 불확실하다”고 밝혀 논란이 확산되고 있다.

로이터통신은 지난 18일(현지시간) “고도의 보안이 유지되는 선전(深圳) 연구소에서 중국 과학자들이 워싱턴이 수년간 막으려 했던 것을 만들어냈다”면서 “인공지능, 스마트폰, 서방 군사 우위의 핵심인 무기를 구동하는 첨단 반도체 칩을 생산할 수 있는 장비의 시제품이 바로 그것”이라고 보도해 눈길을 끌었다.

로이터의 이런 단독 보도를 인용해 우리 국내 언론들은 “中, EUV 노광장비 시제품 완성, 중국판 맨해튼 프로젝트”, “中, EUV 노광장비 시제품 개발…2028년 상용화 추진”, “EUV 장비까지 자체 개발, 中 반도체 굴기 긴장해야” 등의 제목을 달고 대대적으로 보도했다.

이들 국내 언론들의 보도 내용의 핵심은 “네덜란드 ASML이 독점 생산해 온 EUV 장비는 현재 중국 수출이 전면 금지된 상태인데, 이 때문에 중국은 첨단 반도체 생산에 심각한 지장을 겪었다”면서 “하지만 중국이 EUV 시제품을 만드는 데 성공하면서, 이 같은 문제 해결에 다가가는 ‘기술적 이정표’를 세웠다는 평가가 나온다”는 내용이었다.

그러면서 “메모리와 인공지능(AI) 칩 등 반도체 전반에서 자체 기술을 축적해 온 중국이 생산 장비 분야에서도 자립 가능성을 보여주는 단계에 이르렀다는 분석이 나온다”고 짚었다.

이에 대해 로이터는 “중국이 올해 초 EUV 노광 장비의 시제품을 완성하고, 현재 시험 가동 중”이라면서 “이 장비는 극자외선을 만드는 데는 성공했지만, 아직 실제로 반도체를 생산할 정도는 아닌 것으로 전해졌다”고 밝혔다.

로이터는 이어 “이 프로젝트는 ‘중국판 맨해튼 프로젝트(미국의 원자폭탄 개발 계획)’로 불린다”며 “ASML 장비보다 조잡하지만, 시험 가동은 가능한 수준”이라고 했다.

이 보도에서 언급된 노광 장비는 반도체 회로를 웨이퍼에 빛으로 새기는 장비로, 가장 첨단 장비인 EUV는 13.5㎚(나노미터) 파장의 빛을 쏴 이전 세대보다 훨씬 더 촘촘하게 새길 수 있어, 초미세 공정에 필수 장비로 꼽힌다. 그런데 바로 이 EUV 장비를 유일하게 만들 수 있는 곳은 네덜란드의 ASML로, 이 회사를 보통 반도체 업계의 ‘수퍼 을(乙)’로 부른다.

미국과 네덜란드 정부는 2019년부터 EUV 장비의 중국 수출을 제한했다. 이에 중국은 EUV의 이전 세대 장비인 심자외선(DUV) 장비에 의존해 반도체 개발을 할 수밖에 없고, 그러다보니 수율이 낮아 5나노 이하 초미세 공정의 칩을 양산할 수 없었다. 2023년부터는 DUV 장비마저 중국 수출이 규제됐다.

이와 관련해 로이터는 “반도체 업계에서는 중국이 EUV 장비를 개발하는 데 상당한 시간이 걸릴 것이라고 봤다”면서 “광원과 광학계(거울), 진공 시스템 등 모든 시스템이 원자 단위의 정밀도로 동시에 작동해야 하기 때문인데, 그럼에도 중국 정부는 반도체 자립 전략의 일환으로 EUV 개발 프로젝트를 은밀하게 추진하면서 거액의 계약금을 주고 ASML 출신 중국계 직원들을 영입해 이들을 중심으로 ASML의 EUV 장비를 분해해 구조와 작동 방식 등을 파악하는 ‘역설계’ 방식으로 자체 EUV 시제품을 개발했다”고 밝혔다.

로이터는 이어 “중국이 2028년까지 EUV 시제품으로 칩을 생산하는 것을 목표로 삼았으나, 현실적인 시점은 2030년이 될 것”이라면서도 “이 정도만 해도 분석가들이 예상했던 것보다 훨씬 빠른 시점”이라고 했다.

[그럼에도 로이터가 지적한 중국반도체의 한계]

그럼에도 한계는 있다는 것이 로이터의 지적이다. 로이터는 “중국이 EUV 장비 생산에 필수인 부품을 구하기 어려워 자체 개발에 한계가 있다”면서 “ASML 장비에는 EUV 빛을 반사하고 초점을 맞춰주는 역할을 하는 독일 자이스의 초정밀 광학계가 들어가는데, 중국과학원(CAS)이 시제품 광학 시스템을 구축했지만, 아직 정밀도와 내구성이 확보되지는 않은 것으로 전해졌다”고 짚었다. 따라서 “이번 시제품을 구축할 때도 ASML의 중고 제품이나 일본 니콘, 캐논의 부품이 활용됐다”는 것이 로이터의 지적이다.

이와 관련해 반도체 업계 관계자는 “중국이 단기간에 EUV 장비를 안정적으로 상용화하기는 어려울 것으로 보인다”면서도 “반도체 설계에 이어 공정과 장비까지 중국의 자립 시도가 전방위적으로 진행되고 있다”고 했다.

사실 로이터의 보도만 해도 앞부분에서는 마치 중국의 반도체 기술이 서방세계를 이미 따라잡은 듯 흥분했지만, 뒤로 가면서 중국 반도체 기술의 한계를 분명히 지적하면서 서방의 기술을 따라잡는데 앞으로 몇 년이 더 걸릴지 모른다고 지적하고 있다.

이와 관련해 우리 채널은 지난 9월 4일, “골드만삭스의 충격적 보고서, 중국 반도체 최소 20년 뒤처졌다!”는 제목의 정세분석(유튜브 3521회)를 통해 “미국 투자은행 골드만삭스(Goldman Sachs)의 보고서 때문에 중국이 충격에 휩싸였다”면서 “중국의 첨단 반도체 제조산업이 서구기술보다 무려 20년이나 뒤처져 있다는 내용의 보고서를 발표했기 때문”이라고 짚은 바 있다.

영국의 하이테크 전문 매체인 Wccftech도 지난 9월 1일(현지시간) 골드만삭스의 보고서를 인용하면서 “중국 리소그래피 기업들이 미국 기업들보다 최소 20년 이상 뒤처져 있는데, 리소그래피는 반도체 제조의 여러 분야 중 하나이며, 중국의 고성능 칩 생산을 가로막는 유일한 장애물로 네덜란드 기업 ASML에서 제조하는 최첨단 리소그래피 장비는 미국산 부품을 사용하기 때문에 미국 정부는 중국에 대한 판매를 제한할 수 있다”고 보도한 바 있다.

Wccftech는 “리소그래피는 칩 제조 공정의 여러 단계 중 하나로 포토마스크에서 실리콘 웨이퍼로 칩 디자인을 옮기는 과정이 포함되는데, ASML의 EUV 및 High-NA EUV scanners와 같은 고성능 장비는 실리콘 웨이퍼에 더 작은 회로 패턴을 트랜스퍼(transfer)하여 칩 성능을 향상시킨다”면서 “패턴이 트랜스퍼되면 최종 레이아웃을 위해 에칭을 진행하고, 다른 재료를 침전(deposit)시킨 후 제조 공정 전반에 걸쳐 웨이퍼를 세척한다”고 설명했다.

이 매체는 그러면서 “결과적으로 웨이퍼에 미세 회로를 재현하는 데 있어 리소그래피의 중요성은 리소그래피 장비가 칩 제조 공정의 병목 현상임을 의미한다”면서 “이런 차원에서 투자은행 골드만삭스는 최근 보고서에서 중국 국내 산업이 ASML의 현 세대 칩 제조 기술과 동등한 수준에 도달하려면 최소 20년은 더 걸릴 것이라고 전망했다”는 것이다.

사실 골드만삭스의 보고서나 영국의 하이테크 전문 매체인 Wccftech의 분석은 지금도 전혀 변하지 않았다. 실제로 로이터의 단독 보도가 나간 직후 일본의 저명한 반도체 업계 전문가인 하토리 타케시는 “중국이 과거에 에스모와 니콘에서 엔지니어들을 빼돌린 것은 사실이지만, 이 EUV 프로토타입의 진위 여부는 ‘매우 불확실’하며, 많은 핵심 기능들이 아직 확인되지 않았다”고 밝혔다.

또다른 전문가들도 중국이 자이스 광학 시스템, 소프트웨어 생태계, 글로벌 협력망이 부족한 상태에서 역설계를 통해 EUV 독점을 깨뜨리려는 시도는 분명히 있기는 하지만, 수많은 제재가 이루어지고 있는 상황에서 기계나 부품 몇 가지 밀수했다고 해서 중국이 가지고 있는 기술적 한계를 원천적으로 무너뜨릴 수는 없다고 진단한다.

물론 시제품 수준은 만들 수 있지만 문제는 상업용으로 얼마나 효용성이 있는가 하는 문제는 별개다. 결국 이번 로이터의 보도도 중국 공산당의 기술 전략이 지닌 구조적 취약성을 드러내고 있다고 보는 것이 맞을 것이다. 한마디로 ‘기술적 허상’에 불과하다는 것이다.

[중국, 리소그래피 기술 진전 대대적 선전하기는 하지만...]

물론 중국이 리소그래피 분야에서 기술 개발 노력을 소홀히 하는 것은 결코 아니다. 화웨이와 협력하는 중국 본토의 유명 반도체 장비 기업인 신카일라이(新凯来, Xinkailai)는 지난 9월 4일부터 6일까지 우시에서 열리는 제13회 반도체 장비·핵심 부품·소재 전시회(CSEAC 2025)에 참가했다. 올해 신카일라이가 리소그래피 장비 분야에서 대단한 기술을 선보인 듯 했지만, 결국 실험실에서의 성공 단계 정도인 것으로 파악됐다. 이러한 사실을 해외의 언론들이 마치 상용화에 곧 다가간 듯 과대평가하고, 또 중국 선전 매체들은 이를 대대적으로 홍보하고 있는 것이다.

이와 관련해 우리 채널은 지난 10월 22일, “반도체 장비 모방버전 만들려다 실패한 중국, 서방기술과 20년 격차, 실상만 드러났다!”는 제목의 중국관찰(유튜브 3603회)를 통해 중국 반도체의 기술이 지금 어디까지 와 있는지 자세히 설명한 바 있다.

결국 중국이 AI 고사양 칩 개발에 성공했다든지, 아니면 ASML의 EUV에 필적할만한 성과를 냈다고 떠들어대는 것은 미국을 중심으로한 관련 제재가 아무 소용이 없다는 것을 퍼뜨려 제재의 무력화를 유도하려는 술책에 불과하다. 이런 측면에서 이번 로이터의 단독 보도나 국내 언론들의 대대적 인용 보도는 팩트 체크를 제대로 하지 않은 채 그저 기사 베껴 쓰기에 급급했다는 인상을 받는다. 그저 아쉬울 뿐이다.